Date et heure limite de remise des plis :
15/09/2025 12:00
(heure de Paris)
Référence :
2025_AOO_Equipement_ICP-RIE_INSP
Intitulé :
Acquisition, livraison et mise en service d’un bâti de gravure plasma au sein de l’Institut des NanoSciences de Paris (INSP)
Objet :
Dans le cadre de ses activités de micro-nanofabrication de dispositifs et de composants, l’INSP souhaite acquérir un bâti de gravure plasma.
L’équipement attendu est une machine de gravure par plasma de type RIE-ICP (Reactive Ion Etching – Inductively Coupled Plasma) constitué de deux électrodes qui génèrent un plasma uniforme de haute densité à partir d’une source inductive, et d’une cathode indépendante pour polariser les substrats. L’équipement devra comporter un module de gravure profonde du silicium et un système de détection de fin d’attaque par interférométrie laser.
Entité publique :
Etablissements et organismes de l'enseignement supérieur, de la recherche et de l'innovation
Entité d'Achat :
EOESRI / CNRS / CNRS - DR02 - CNRS Délégation Paris Centre
Type d'annonce :
Annonce de consultation
Procédure :
Appel d'offres ouvert
Adresse de retrait des dossiers :
Adresse de dépôt des offres :
Lieu d'ouverture des plis :
Prix d'acquisition des plans :
Echantillons demandés :
Date et heure limite :
Réunion :
Date et heure :
Contact Administratif :
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